소니는 지난 1월, 차세대 이면조사 이미지 센서인 적층형 CMOS 센서를 발표한 바 있다. 이어 소니는 22일 적층형 CMOS 센서 생산을 늘리기 위해 나가사키 테크놀로지 센터에 800억 엔을 투자, 생산 설비를 강화하겠다고 밝혔다.

 

기존 이면조사 이미지 센서는 빛을 받아들이는 수광부와 신호 처리를 위한 기판부, 2층으로 구성됐지만 새로 개발된 적층형 CMOS 센서는 기판부가 없고 신호 처리부가 수광부와 같은 층에 자리잡고 있다. 이를 통해 센서 두께를 줄이고 신호 처리 영역을 넓혀 더욱 우수한 화질을 기대할 수 있다.

 

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적층형 CMOS 이미지 센서는 1/3.06인치 1300만 화소, 1/4인치 800만 화소 타입으로 스마트폰 카메라에 사용되는 사이즈를 사용했다. 이후 소니는 1/2.3인치나 1/1.7인치 등 콤팩트 디지털 카메라 사이즈의 적층형 CMOS 센서도 선보이겠다고 밝힌 바 있다.

 

적층형 CMOS 이미지 센서 생산 공장 증설로 인해 소니는 이미지 센서 사업 부문에서의 영향력을 더욱 크게 키울 수 있게 됐다. 소니의 이미지 센서 생산 능력은 2013년 9월 말 시점에서 월 6만 매에 달하게 될 것으로 예측된다. 소니는 이번 공장 증설로 스마트폰, 콤팩트 디지털 카메라 이미지 센서 공급을 원활히 하고, 이후 비디오 카메라나 산업용 카메라 부문에도 진출하겠다는 계획을 밝혔다.

  

차주경 기자 reinerre@chosunbiz.com

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