올해 반도체 시설투자액, 사상 첫 1000억달러 돌파

노동균 기자
입력 2018.05.23 16:47
2018년 반도체 시설투자 규모가 처음으로 1000억달러(108조원)를 돌파할 것이란 전망이 나왔다.

반도체 시장조사업체 IC인사이츠는 22일(현지시각) 2018년 반도체 시설투자액 증가율을 애초 8%에서 14%로 상향 조정한다고 밝혔다. 지난해 반도체 시설투자액이 900억달러(97조3800억원)였음을 고려하면, 올해는 사상 처음으로 1000억달러를 넘어서게 되는 것이다.

2000~2018년 전 세계 반도체 시설투자액 통계 및 전망. / IC인사이츠 제공
IC인사이츠의 이러한 분석은 삼성전자와 SK하이닉스의 투자 확대 움직임에 따른 것으로 풀이된다. 삼성전자는 올해 시설투자 규모가 지난해보다 소폭 줄어들 것이라고 밝혔지만, 최소 200억달러(21조6440억원) 이상을 집행할 것으로 IC인사이츠는 내다봤다. 삼성전자는 올해 1분기에만 반도체 시설투자에 67억2000만달러(7조2740억원)을 집행했다.

SK하이닉스는 지난해 반도체 시설투자에 10조3000억원을 집행했는데, 올해 시설투자액은 13조원을 넘길 것이란 계획을 밝힌 바 있다. SK하이닉스는 하반기 청주 M15 공장과 중국 우시 D램 공장 장비 입고를 앞둔 상태다

여기에 최근 중국이 반도체 분야에 공격적으로 투자를 늘리면서 소위 '중국 효과'가 세계 반도체 시설투자 규모의 반등 요소가 될 것으로 IC인사이츠는 전망했다. 중국 정부는 지난달 반도체 산업 진흥을 위한 3000억위안(51조원) 규모의 펀드 조성 계획을 발표했다.

#반도체 #시설투자 #삼성전자 #SK하이닉스

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