삼성전자가 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 기반 최첨단 제품 수요 확대에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리 생산 시설을 구축한다.

삼성전자는 이달 라인 공사에 착수해 2021년 하반기부터 본격 가동한다고 21일 밝혔다.

올해 2월 EUV 전용 화성 ‘V1 라인'을 가동한 삼성전자는 평택까지 EUV 라인을 확장하며 ‘반도체 비전 2030’ 달성에 박차를 가하고 있다.

 삼성전자 평택캠퍼스 항공사진 / 삼성전자
삼성전자 평택캠퍼스 항공사진 / 삼성전자
난해 4월 발표한 '반도체 비전 2030'을 발표하고 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 달성하겠다고 선언한 바 있다. 평택 EUV 라인 구축은 ‘반도체 비전 2030’ 달성을 위한 세부 전략으로 풀이된다.

삼성전자는 2019년 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 제품 양산을 시작한 후, 2020년 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속해서 확대했다. 여기에 2021년 평택 라인이 가동되면, 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 전망이다.

5나노급 제품을 올 하반기 화성사업장에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다.

정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 "5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나갈 것"이라며 "전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것"이라고 밝혔다.

글로벌 파운드리 시장은 5G, HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심으로 성장하고 있다.

삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나갈 것이라고 전했다.

김동진 기자 communication@chosunbiz.com