2차전지 설비 업체 디에이테크놀로지가 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공했다고 5일 밝혔다.
장폭 셀 스태킹은 최고 속도 0.5/sheet에 달하는 설비다. 기존 장폭 적층 Z-스태킹 중 최고 속도를 지녔다. 이번 개발은 그동안 발생한 이매 분리 이슈를 해결하고, 국외 기업의 장폭 셀 증설 계획에 따라 진행했다.
장폭 셀 스태킹에는 세 가지 신규 기술을 적용했다. P&P 유닛이 동작하는 동안 매거진 유닛에서 바이브레이션 패드를 통해 이매분리가 진행되는 신규 방식을 차용했다. 첫 번째 P&P유닛과 두 번째 P&P유닛을 동시에 작동하는 구조로 롱 셀 이송시 택트 타임을 최소화했고, 신규 적층방식을 활용해 셀 무너짐 현상을 완화했다.
디에이에테크놀로지는 7월 2차전지의 와인딩 방식 셀 스택 제조 장치 및 방법에 관한 특허를 취득했다. 고속 레이저 노칭 장비 개발에도 성공한 바 있다.
디에이테크놀로지 관계자는 "장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공하면서 2차전지 시장에서 입지 강화를 기대한다"며 "하반기에도 국내외 배터리 증설 이슈가 있는 만큼 기술 경쟁력을 발휘해 수주를 확대하겠다"고 말했다.
이광영 기자 gwang0e@chosunbiz.com