탈일본 가속화…정부, 듀폰 EUV용 포토레지스트 개발·생산 시설 유치

입력 2020.01.09 16:42

글로벌 화학소재기업 듀폰이 한국에 극자외선(EUV)용 포토레지스트 개발·생산시설을 구축한다. EUV용 포토레지스트는 일본 수출규제 3대 품목 중 하나다. 듀폰이 2021년까지 2800만달러(324억원)를 투자해 충남 천안에 시설을 마련하기로 확정하면서 소부장 공급선 다변화에 기여할 것으로 기대된다.

(왼쪽부터) 장상현 코트라 인베스트 코리아 대표, 성윤모 산업통상자원부 장관, 존 켐프 듀폰 사장 / 산업부 제공
산업통상자원부는 8일(현지시각) 미국 샌프란시스코 포시즌스호텔에서 존 켐프(Jon Kemp) 듀폰 전자·이미징 사업부 사장이 장상현 코트라 인베스트 코리아 대표에게 한국 내 개발·생산 시설 구축을 위한 투자 신고서를 제출했다고 밝혔다. 성윤모 산업부 장관도 이 자리에 참석했다고 덧붙였다.

듀폰은 ‘EUV 포토레지스트 및 CMP 패드’ 한국 시설 투자를 확정하고 충남 천안에서 소재를 개발·생산하기로 했다.

EUV용 포토레지스트는 반도체 기판(웨이퍼) 위에 패턴을 형성하는 공정에 사용하는 감광성 재료로, 반도체 극소형화에 필요한 소재다. 해당 소재는 일본 기업이 글로벌 90% 이상의 점유율을 보유하고 있으며 수출 의존도가 높은 소재 중 하나다.

CMP패드(Chemical Mechanical Polishing Pad)는 반도체 웨이퍼 표면을 물리·화학 반응으로 연마하는 연마재로 반도체 집적도를 높이는 데 사용한다. 듀폰은 CMP패드 분야에서 글로벌 80% 이상 점유율을 지닌 기업이다.

산업부는 지난해 7월 일본 정부의 수출규제 조치 이후 핵심 소재·부품·장비의 공급 안정화를 위해 듀폰과 접촉하며 투자 유치를 위해 노력해 왔다고 밝혔다. 협상 과정에서 정부-지방자치단체-코트라가 한 팀을 이뤄 투자 확정을 이끌었다고 전했다.

존 켐프 사장은 투자신고서를 제출하는 자리에서 "EUV용 포토레지스트 개발과 생산을 위해 한국 내 주요 수요업체와 제품 실증테스트를 진행하는 등 긴밀히 협력할 계획"이라고 밝혔다.

한편, 성윤모 장관은 9일 실리콘밸리에서 미국 기업들을 대상으로 ‘투자가 라운드테이블 행사’를 개최했다. 이 자리에는 램리서치와 어플라이드벤처스, 보그워너 등 소재·부품·장비 기업과 수소 등 신산업 분야 기업 10개사가 참석했다. 성 장관은 이 기업들에도 투자를 제안했다.

산업부는 "참석 기업들이 한국 정부의 수소경제 활성화 로드맵, 핵심 소재·부품·장비 경쟁력 강화 대책 등에 큰 관심을 보였고 이 분야에서 투자 협력이 확대될 수 있다는 점에 기대감을 나타냈다"며 "특히 수소차 관련 소재기업은 한국에 생산시설을 구축할 계획이 있다는 사실을 밝히면서 한국 정부의 지속적인 관심과 지원을 요청했다"고 밝혔다. 산업부는 해당 투자 유치는 진행 중인 사안으로 기업명을 공개할 수 없다고 전했다.

산업부는 미국을 시작으로 주요 투자국을 대상으로 전략적 투자유치 활동을 벌이기 위해 주한 외국기업과 협·단체, 지자체 등과 협력을 확대할 계획이다.


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