삼성전자, 평택 2라인에 낸드플래시 생산라인 구축 나서

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입력 2020.06.01 11:04
삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하기 위해 투자를 단행한다.

AI·IoT 등 기술 발전과 5G 보급에 따른 중장기 낸드수요 확대에 대응하기 위함이다.

평택캠퍼스 P2라인 전경 / 삼성전자
삼성전자는 최근 경기도 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했으며, 2021년 하반기 양산을 시작할 계획이라고 1일 밝혔다.

지난 2015년 조성한 평택캠퍼스를 회사의 차세대 메모리 전초 기지로 삼았다. 이곳에 글로벌 최대규모 생산라인 2개를 건설했다. 이번 투자로 증설한 라인에서 최첨단 V낸드 제품을 양산한다.

삼성전자는 지난해 7월 최초로 6세대(1xx단) V낸드 제품을 양산하기도 했다.
삼성전자는 화성과 평택, 중국 시안에 낸드플래시 생산라인을 운영하고 있다.

최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력의 일환"이라며 "최고의 제품으로 고객사 수요에 차질없이 대응함으로써 국가 경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 밝혔다.

김동진 기자 communication@chosunbiz.com


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